脚踏实地，才是唯一的出路
在过去的几天，中科院的科研成果“超分辨光刻装备”通过验收被无良媒体传的“风生水起”。科研成果本来是可喜的，但是传着传着就成了谣言——《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜价在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……
根据了解，本人不敢苟同一些媒体的传谣。
首先我们要了解什么是光刻机：又名曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。半个世纪以前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模的集成电路——芯片。
芯片的进化，越来越小，就对于光刻机的要求就越来越极端。顶尖的光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，用于10纳米以下的线条。如果线条细到一定的程度，投影就模糊，要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。
所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机，创造了“一台卖一亿美金”的神话。这种仪器要求工作环境严苛，稳定并且大功率的极紫外光刻机非常的难造，他不仅仅是钱的问题。中国人向来不差钱，而且极紫外光刻机配合的光学和机械部件又极端精密。它可以说是一个多产业的配套升级才能够做的出来。
中国科学院光电研究所从2003年研究国际上兴起的表面等离子体（surface plasma，SP）。所谓的SP，光电研究所科学家杨勇解释道：拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。
但是，这种电磁波很弱，所以光刻胶得凑近了才能刻出来。而且加工精度与荷兰的ASML的光刻机根本就没法比，刻几十纳米级的芯片是没法用现在的SP光刻机的，至少现在不行。
在验收会上有记者提问道：这款光刻机设备能不能刻芯片，打破国外的垄断？
光电研究所的专家明确的回答道：用于芯片需要功课一系列的技术难题，距离还很遥远。
总而言之，我们发现中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机根本就不是一回事情，无良媒体大肆炒作中国“芯”正在弯道超车，就好像中国竞走运动员可以超越博尔特一样的道理。浮夸之风盛行，导致全民一味的“自欺欺人”。
有些传播媒体为了吸引眼球，点击量，最常用的手段就是“自嗨文”和“吓尿体”。一听到中国科技成就小有突破就大肆鼓吹，不断渲染科研成果……
为什么中国科学界不愿意面对媒体，就是因为有个别的“科技报道”是满足部分民众虚荣心的伪新闻
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