製造光刻機難度堪比登天?中國華卓精科打破荷蘭壟斷,突出重圍

通過華為自研芯片一事,很多人都明白了芯片研發對於智能手機品牌發展的重要性,但同時製造芯片也是一件不可忽略的事情。製造芯片的光刻機市場還牢牢捏在荷蘭一家名為ASML企業的手中,按照銷售數量統計,

這家企業佔據了全球光刻機市場的近90%的市場份額,尤其是在高端的極紫外光(EUV)領域,ASML處於完全壟斷地位。

近日,中國北京華卓精科科技股份有限公司擬登陸科創板,而根據華卓精科官網顯示,這家中國企業讓人驚喜的地方在於,其生產的光刻機雙工件臺,打破了ASML公司在光刻機工件臺上的技術上的壟斷,成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術的公司。

製造光刻機難度堪比登天?中國華卓精科打破荷蘭壟斷,突出重圍

光刻機是製造規模集成電路,也就是手機、電腦等芯片的核心裝備。為了能夠將設計圖形制作到小小的硅片上,並在一顆芯片上集成數十億、甚至上百億的晶體管,光刻機需達到十幾納米甚至幾納米的更高的圖像分辨率。而對於擁有這樣技術的光刻機來說,其實核心部件並不多,就兩個,一個是EUV曝光系統,另一個是雙工件臺。華卓精科所突破的技術就是後者。

製造光刻機難度堪比登天?中國華卓精科打破荷蘭壟斷,突出重圍

而在EUV曝光系統方面,中國目前主要是中科院長春光機所在研究,從2002年開始,歷經多年的發展,也只才交出了32nm線寬的EUV光刻曝光系統。雖然有了不小的突破但與國際先進水平仍有不小的差距。雙工件臺的研發之路同樣充滿坎坷。

圍繞雙工件臺系統的研發,華卓精科的研究團隊先後完成了專利申請231項,其中國際發明專利41項,已獲得授權122項,培養了一支近200人的研發團隊,才建立了高水平研發平臺。這才生產出了主要應用於65nm及以下節點的ArF乾式、浸沒式步進掃描雙工件臺光刻機、KrF步進掃描光刻機,單臺系列產品應用於i線、g線步進掃描光刻機及封裝光刻機等一系列產品。

製造光刻機難度堪比登天?中國華卓精科打破荷蘭壟斷,突出重圍

從以上介紹的幾個方面看來,華卓精科確實在光刻機雙工件臺技術上擁有著自己核心的優勢,但是現在從市場的角度來看,光刻機雙工件臺的客戶主要還是光刻機整機廠商,但是目前近90%的光刻機市場都被荷蘭的ASML企業所佔據,華卓精科對整個光刻機市場的出貨和影響還是非常小的。因此,現在華卓精科只是看上去營收和利潤增長非常快,實際的規模相比較荷蘭ASML來說非常的微小了。華卓精科一年的營收可能還不如ASML一臺EUV光刻機的銷售額的1/10高。

製造光刻機難度堪比登天?中國華卓精科打破荷蘭壟斷,突出重圍

但是如今是技術是整個市場發展的關鍵,只要擁有了頂尖的技術就不愁市場規模的發展。現在,華卓精科在光刻機雙工件臺技術上有了突破性的發展,為我國自主研發65nm至28nm 雙工件乾颱式及浸沒式光刻機奠定了基礎,其戰略意義遠高於其所帶來的營收及利潤。隨著國產半導體產業發展的飛速發展,國內對於光刻機市場空間約為37.68 億美元、51.12 億美元。而在國產替代的大趨勢之下,國產光刻機產業有望迎來高速發展。


分享到:


相關文章: