江苏省西京市
不对。
光谱光是指在特定光度条件下，引起光强度感觉相等的、两个辐射的辐射的辐通量之比，人对各种波长光所感受的平均相对灵敏度，简称光视见效率。
两种光谱的光应该是指光的干涉现象 ：
它是指因两束光波相遇而引起光的强度重新分布的现象。干涉现象的必要条件是：①频率相同；②光矢量(即电场强度矢量E)的振动方向相同；③在相遇处两束光的相位差恒定。因此两种光谱，是指频率不同，所以不会发生干涉现象。
我们在刻蚀机方面已经获得了不错的进步，这就要为我们的中微半导体点赞了，是他们的努力，让我们的刻蚀机技术进入了5nm领域，这是世界上领先的，而光刻机，这就有些遗憾了，可以说我们和国际上的差距可不是一句话可以说完的。
光刻机研制异常艰难，涉及到的领域非常多，大家都知道，现在高端光刻机基本上都被外国所垄断了，甚至可以直接说是被荷兰的“ASML”所垄断了，而这个垄断是包含很多的“垄断”的。
光刻胶：作为微电子技术中微细图形加工的关键材料，光刻胶是光刻机研发的重要材料，通俗的解释是光刻机就是利用特殊光线将集成电路“映射”到硅片表面，而要想在硅片表面的避免留下“痕迹”，这就需要在硅片表面涂上一层特殊的物质，这个物质就是“光刻胶”。这个光刻胶可不是平时的胶水，性能指标要求极高，比如特殊感光性能，不能说感光无痕迹，粘附性要求高，不能说不能附着在硅片表面，或者不能匀称的附着，粘滞性低，这样光刻胶厚度才能均匀，另外，抗蚀性、表面张力上都有极高的要求。
光刻胶不止应用于芯片，而在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上应用广泛，而说一个很无奈的话，现在我们所需要的高端光刻胶基本上都是从国外进口的，这个不但影响了我们高端光刻机的研制，同时也影响到了其他相关产业的发展。
制造芯片现在普遍使用的是193纳米准分子激光，10～15纳米的极紫外线光刻技术，这里的193、10、15指的是光的波长。用两种不同波长的紫外线光重叠不能发生干涉现象，也不能出现0.1纳米干涉线宽，如果能够使其发生干涉而减小线宽，那么对机器精细的要求程度特别高。
