限制性異質外延生長使原子層厚的半範德華金屬成為可能

原子層厚的二維(2D)金屬可能是下一代量子和光電設備中的關鍵組成部分。但是,必須穩定2D金屬以防止環境破壞,並以晶圓級集成到異質結構器件中。碳化硅和外延石墨烯之間的高能界面為穩定各種2D金屬提供了有效的框架。

有鑑於此,賓夕法尼亞州立大學的 Joshua A. Robinson在外延石墨烯和碳化硅的界面處合成了穩定的大面積,環境穩定的單晶二維鎵,銦和錫。

本文要點:

1)先在6H-SiC(0001)上生長單層EG,然後暴露於氧等離子體中使EG層中產生缺陷。隨後將EG / SiC的EG面朝下放入坩堝中,Ga,Sn和In等金屬前驅物放在EG面下方,並一起加熱至700-800 oC。氣化的金屬通過EG缺陷擴散,到達EG / SiC界面,得到原子層厚的的半範德華金屬。

2)二維金屬在下面與SiC通過共價鍵結合,但與石墨烯覆蓋層之間存在非鍵界面;也就是說,它們是“半範德華”金屬,其鍵合特性具有很強的內部梯度。上層石墨烯層不僅有助於限制2D金屬,而且還起到了防止超薄非貴金屬氧化的密封作用。

3)這些非中心對稱的二維金屬為超導器件,拓撲現象和先進的光電性能提供了誘人的機會。例如,所報道的2DGa是一種超導體,它結合了六個強耦合的Ga衍生的電子袋和一個接近石墨烯外層的Dirac點的大的近似自由電子的費米表面。

4)以前Au可以說是唯一對環境穩定的元素金屬,但在EG和SiC的界面處可以實現包含單晶,金屬元素和超導體的空氣穩定的2D異質結構,為穩定3D金屬及其合金的各種具有潛在的特性的2D同素異形體打開了大門。以上這些新穎的材料都可以納入下一代量子,光子和電子應用的高級多組分異質結構中。

限制性異質外延生長使原子層厚的半範德華金屬成為可能

NatalieBriggs et al Atomically thin half-van der Waals metals enabled byconfinement heteroepitaxy. Nat. Mater. (2020)

DOI:10.1038/s41563-020-0631-x

https://www.nature.com/articles/s41563-020-0631-x


分享到:


相關文章: