ASML宣佈全新半導體技術:5nm工藝產能大增600%

作為製造芯片的核心器件,光刻機自然是重中之重,而一款性能出眾的光刻機也是製造高性能芯片的必要條件,而在光刻機領域尤其是高端光刻機,目前基本上被ASML所壟斷,而ASML也提供給包括英特爾、臺積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機。目前隨著技術的進步,越來越多的晶圓代工廠商開始研發和量產5nm工藝,如今ASML宣佈將會採用全新的技術,從而讓5nm晶圓的產品成倍提升。

ASML宣佈全新半導體技術:5nm工藝產能大增600%


今天ASML宣佈正式發佈第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000,這個檢測機可以適用於5nm及更先進工藝,使得產能大漲600%。根據ASML的介紹,HMI eScan1000實際上是一套能夠驗證先進工藝生產出來的晶圓質量的系統,它的作用就是檢測製造出來的晶圓能夠符合要求和預期。

ASML宣佈全新半導體技術:5nm工藝產能大增600%


全新的多光束檢測機HMI eScan1000能夠同時生產和控制九道電子束,檢測性能提升了600%,因此晶圓的製造能力也得到了極大的提升,此外HMI eScan1000不單單能夠檢測5nm工藝的產品,同時也能夠為今後的更先進的工藝做準備,而現在這款產品也得到了客戶的認可,目前已經在陸續測試。


分享到:


相關文章: