在不久前的“科創爭先鋒先進事蹟報告會”上，賀榮明正在分享著他對光刻機的認識與製造光刻機的艱辛。“這十五年來，我一直在研究光刻機，要說光刻機有多難，我真的有點不堪回首，我感到難以用語言來表達光刻機的難處，所以回想當年的奮力一跳，現在想想當年的勇氣可能大於當年的勇氣。”
許多人可能會有疑問，什麼光刻機呢？這位研究光刻機多年的人又是誰呢？
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。光刻是十分繁瑣且複雜的過程。而這位研究光刻機的賀榮明則是上海微電子裝備（集團）股份有限公司的董事長兼總經理。
當年，中國的光刻機技術十分匱乏，對國外的技術依賴很重。賀榮明回憶道，當他帶著團隊去歐洲學習時，收穫的除了同行之間的技術交流之外還有許多背地裡的嘲笑與不屑。更有外國專家直接出言不遜“即使給你們全套圖紙，你們中國也做不出光刻機。”這樣的嘲諷的話深深地刺痛了賀榮明的自尊心。
不服氣的賀榮明帶著團隊回到國內戰鬥，很長一段時間他都是帶著“賭氣”的心態去研究去創造。很多年後，當第一臺光刻機被生產出來並在IC重症領域打敗競爭對手被臺灣客戶接受的時候，賀榮明知道這些年的堅持與付出都是值得的。臺灣客戶更是真誠的說出“真沒想到我們中國人也能做出光刻機，我作為中國人真的感覺很自豪。”
如今，我們已完成65納米ArF步進掃描雙工件臺光刻機目錄和光源製造等多項任務。中國也成為了世界上第二個研製光刻機雙工件臺的國家。光刻機的研究也打破了荷蘭ASML的壟斷，光刻機的技術已無需再依賴外國。
在一次公司的幹部大會上，賀榮明說到“如果我們這群人的存在和努力，可以為科技界獲得外國同行的一份尊重的話，我們什麼都值！”正是他的堅持與不服氣，填補了中國光刻機的空白。當年那位信口開河的外國專家如今已被狠狠打臉。中國製造雖然速度還有待提高，但屬於中國的自主研究與創造卻永不會缺席。對此，你有什麼看法呢？
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