三星開始使用7-nm工藝技術製造處理器，採用FinFET LPP（低功率Plus）技術和EUV（深紫外光刻），並評論了在移動設備中使用新技術的優勢。
EUV光刻技術在過去幾十年中得到了發展，現在才開始大規模生產。向7納米工藝技術過渡，三星總共投入了60億美元。
首款7nm LPP EUV芯片
7nm LPP EUV工藝將用於即將推出的Galaxy S10旗艦智能手機中的三星exynos 9820芯片組，以及未來支持5G網絡的高通芯片。
三星代表報告說，其他製造商使用過時的浸入式氬氟化物技術而不是EUV生產7-nm芯片組，這使得生產成本變得複雜並增加了成本。
7nm LPP EUV芯片質量
三星還表示，新的7-nm LPP EUV工藝技術將生產率提高了20％，相對於10-nm工藝，功耗降低了50％。
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