建模步驟
1.上視基準面草繪同心圓。
2.拉伸高度700 。
3.在前視基準面上草繪圖形。
先草繪一個50*50的正方形，然後再向外等距兩個
把外面兩個正方形剪裁出4個豁口
4.包覆，蝕雕，選藍色面，深度10 。
5.圓周陣列14個。
6.新建基準軸。
7.線性陣列，基準軸是陣列方向（也可以用臨時軸），陣列間距110 ，陣列數量6個。
8.點頂面進入草繪，等距圓。
9.拉伸切除，深度5 。（做這幾部是為了加一個頂蓋）
10.還是用上一步的圓，拉伸高度5 。合併結果的勾去掉。
11.評估一下，發現陣列這一步耗時太長，可以換一種畫法。
12.回到第二步，拉伸高度25 。
13.在頂端草繪，轉換實體引用圓邊線，拉伸110 ，不合並結果。
14.包覆。
15.圓周陣列。
16.線性陣列實體（上一種畫法是陣列的特徵），間距110 ，陣列6個。
17.加上頂蓋，在評估一下，用時大大減短。（兩種方法的思路是一樣的，不同的是上一個用的陣列特徵，這個是陣列的實體，可電腦的運算時間卻減少了。）
18.添加外觀。
19.頂蓋外觀。
20.完成。
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