腳踏實地，才是唯一的出路
在過去的幾天，中科院的科研成果“超分辨光刻裝備”通過驗收被無良媒體傳的“風生水起”。科研成果本來是可喜的，但是傳著傳著就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產芯片白菜價在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……
根據瞭解，本人不敢苟同一些媒體的傳謠。
首先我們要了解什麼是光刻機：又名曝光機是生產大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。在硅片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到硅片上的過程。半個世紀以前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規模的集成電路——芯片。
芯片的進化，越來越小，就對於光刻機的要求就越來越極端。頂尖的光刻機用波長13.5納米的極紫外光源，用於10納米以下的線條。如果線條細到一定的程度，投影就模糊，要清晰投影，線條粗細不能低於光波長的一半。
所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創造了“一臺賣一億美金”的神話。這種儀器要求工作環境嚴苛，穩定並且大功率的極紫外光刻機非常的難造，他不僅僅是錢的問題。中國人向來不差錢，而且極紫外光刻機配合的光學和機械部件又極端精密。它可以說是一個多產業的配套升級才能夠做的出來。
中國科學院光電研究所從2003年研究國際上興起的表面等離子體（surface plasma，SP）。所謂的SP，光電研究所科學家楊勇解釋道：拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震盪，產生波長几十納米的電磁波，可用來光刻。
但是，這種電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了才能刻出來。而且加工精度與荷蘭的ASML的光刻機根本就沒法比，刻幾十納米級的芯片是沒法用現在的SP光刻機的，至少現在不行。
在驗收會上有記者提問道：這款光刻機設備能不能刻芯片，打破國外的壟斷？
光電研究所的專家明確的回答道：用於芯片需要功課一系列的技術難題，距離還很遙遠。
總而言之，我們發現中科院的22納米分辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機根本就不是一回事情，無良媒體大肆炒作中國“芯”正在彎道超車，就好像中國競走運動員可以超越博爾特一樣的道理。浮誇之風盛行，導致全民一味的“自欺欺人”。
有些傳播媒體為了吸引眼球，點擊量，最常用的手段就是“自嗨文”和“嚇尿體”。一聽到中國科技成就小有突破就大肆鼓吹，不斷渲染科研成果……
為什麼中國科學界不願意面對媒體，就是因為有個別的“科技報道”是滿足部分民眾虛榮心的偽新聞
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