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光刻机。。都买荷兰的 好像是叫amsl公司的。 还有 华为 苹果他们的芯片都是台积电或者三星代理的 他们买光刻机干啥。逗比。光刻机是造芯片的用的 华为 苹果他们只是设计 好了让别人造。
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目前有哪些中国企业在研究光刻机？光刻机是一个高精度高复杂集百年工业制造之结晶的一种高科技产品，目前除了荷兰的阿斯麦能够批量生产7nm光刻机之外，基本上再没有任何一家企业有着这样雄厚的技术实力。我国目前也仅有四家企业在研究，并且各自有各自的领域优势。
1、上海微电子装备有限责任公司。上海微电成立于2002年3月，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。该公司自主研发的600系列光刻机，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。
2. 合肥芯硕半导体有限公司。合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月，是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000，已经实现最高200nm的量产。不过按照目前最新消息其已经申请破产清算，主要是光刻机对研发的投入资金是在太大，又没有成熟的产品面向市场，终究难免面临倒闭的风险。上海微电子也是通过快速占领光刻后道工艺技术，迅速占领国内80%市场份额，才得以生存。
3. 无锡影速半导体科技有限公司。无锡影速成立于2015年1月，影速公司是由中科院微电子研究所联合业内子资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。该公司已经成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备，已经实现最高200nm的量产。
4.先腾光电科技有限公司
先腾光电成立于2013年4月，已经实现最高200nm的量产，在2014国际半导体设备及材料展览会上，先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术，震惊四座。
以上就是目前我国曾经或者现在还在研发光刻机，但是最有实力的还是有国家主导的上海微电子装备有限责任公司，不仅是在人才上还有在资金技术实力上都有着希望将中国的光刻机发扬光大，在未来的光刻领域做出一定的贡献。
程序小崔
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺。目前全球99%使用的都是荷兰ASML公司制造的设备，价格高不说，而且有钱也未必能买到，令芯片生产企业很被动，所以中国的企业也在研究光刻机。
上海微电子设备公司已生产出90纳米的光刻机设备，这也是生产国产光刻机的最高技术水平，比ASML公司差不多有10年的差距。因为西方国家有签协议，芯片核心部件材料不能出口到中国，实施封锁政策，导致国产光刻机发展缓慢，上海微电子克服困难自己生产这些零部件。目前生产出来的光刻设备已用到很多的国产企业中，而且国家也在对封锁进行联合公关，相信不久就可以向45nm、28nm迈进。
中科院光电所研发出365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。光刻机的波长决定了芯片工艺的大小，波长越短，造价越高。像ASML最先进的EUV极紫外光刻机，波长只有13.5纳米，可以生产10nm、7nm的芯片。现在一般使用的是193纳米波长的光刻机，分辨率却只有38纳米，而中科院研发的光刻机采用了双重曝光的技术，可以达到22纳米。不过相关专业人士也指出，这种技术只能做短周期的点线光刻，无法满足芯片的复杂图形，后续还在不断优化和改进中。
一个小小的芯片，却包含着很多复杂的工艺，我国芯片主要依赖进口，主要原因还是光刻机设备、技术、人才缺乏所造成的，发展光刻机设备不是一朝一夕就能完成的，长期的投入和发展才能看到成绩。
星河方舟
目前国内研究光刻机的企业不少，因为光刻机实在太重要了。
由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为 IC 制造中最复杂、最关键的工艺步骤， 光刻的核心设备——光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前最先进的是第五代 EUV光刻机，采用极紫外光，可将最小工艺节点推进至 7nm。由荷兰 ASML制造。
国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。
其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。
但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。
如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。
2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。
当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。
首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。
其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。
但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。
更重要的是，目前的紫外线光刻技术，在7nm的芯片出来之后，已经需要一个新的工艺突破。就像当年从液浸式到 EUV的技术飞跃一般。
而中科院这个项目，走了另外一条道路。拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。这叫表面等离子体光刻。
这条道路的优势是未来的成本可以低于目前主流的技术，极限可能高于未来的主流技术，在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
也就是，中科院光电技术研究所的这条技术路径，是非常有价值的一次技术突破，或者技术发现。有可能让中国的光刻机实现弯道超车，而不是在现在主流的工艺道路上亦步亦趋。
波士财经
感谢您的阅读！
最先进的光刻机是阿麦斯，核心技术却在日本！
说到光刻机，我们脑海中第一个跳出来的是阿麦斯（ADSL），可是你不知道的是：经过日本对韩国半导体原材料的禁售，我们豁然发现，原来在芯片制造中，真正实力雄厚的还是日本。这也是为什么当时的美国通过多种手段，将日本的半导体进行层层剥夺的原因，虽是如此，日本的半导体材料品类繁多，高纯度氟化氢、光刻胶和氟化聚酰胺等等，都是不得忽略的半导体原材料；清洗、干燥设备和匀胶显影机仍然占用垄断地位。
在西南证券的统计中，光刻机被荷兰阿斯麦(ASML)和日本的尼康(Nikon)及佳能（Canon）垄断，虽然阿麦斯占据了75.3%，可是也不能忽略尼康和佳能的优势：
实际上，一套晶圆的制造，关键的设备有光刻机、刻蚀机、PVD和CVD等，在刻蚀机上，我们中国的发展还是不错的，早在2018年，就报道称中微半导体设备公司将在2018年底正式敲定5nm刻蚀机，但是我们唯一的遗憾是在光刻机！
其实，中国光刻机虽然发展没有荷兰以及日本的迅速，可是我们却在努力中，我们很熟悉的是上海微电子装备有限公司（SMEE）。目前它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。
以600系列光刻机来说，目前通过使用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术等等，能够制造出90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。确实这方面和阿麦斯还是有差异，但是不可否认，在关键元器件禁运情况下，微电子能够有这么大的收获，实属不易，在今年3月份，微电子今年年底将量产28nmHKC+工艺，在2020年底则将量产14nmFinFET工艺。
另外一个不得不提到的是中科院，根据新华社的报道，中科院的“超分辨光刻装备研制”于2018年11月29日通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
这里的意义在于中科院通过一种新的绕开知识产权壁垒方式，实现一种全新的，技术难度比较高的技术，通过光投影在金属上，通过电子的震动产生电磁波，从而用来光刻，虽然技术难度高，可是要是能够真正的实现，将对于我国有更为长远的影响。
我们光刻机之路，虽然道路且艰，而且长远，可是我们可以确认的是：我们的光刻机一定是有希望冲破阻碍的！
LeoGo科技
光刻机是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术，德国的光学设备、美国的计量设备等，可以说是“集人类智慧大成的产物”。
最先进的光刻机
全球最先进的EUV光刻机全球只有荷兰的ASML生产，占据了光刻机市场高达80%的市场。Intel、台积电、三星的光刻机都来自于与ASML。
最顶尖的光刻机不是荷兰一个公司制造的，集合了许多国家最先进技术的技术支持，可以说是多个国家国家共同努力的结果，比如德国的光学镜头、美国的计量设备等。ASML将这些来自不同国家的3万多个配件，分为13个系统，需要将误差分散到13个系统，如果德国的光学设备做的不准、美国的光源不准，那么ASML瞬间就是失去了精神。
相较于荷兰、德国、美国等这些国家，我国的芯片制造以及超精密度机械制造方面不具有优势。再加上《瓦森纳协定》的技术封锁，因此，在高端光刻机领域，我国可以收仍然是空白。
我国的光刻机技术
上海微电子装备有限公司（SMEE）是我国国内唯一能够做光刻机的企业。上海微电已经量产的光刻机中，性能最好的是SSA600/200工艺，能够达到90nm的制程工艺，相当于2004年奔四CPU的水平。因此，国内晶圆厂所需要的高端光刻机完全依赖进口。
目前，最先进的光刻机是ASML的极紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技术，对于EUV光刻关键技术，国外进行了严重的技术封锁。我国在2017年，多个科研单位合作经过7年的潜心钻研，突破了EUV关键技术。根据相关资料披露，计划2030年实现EUV光刻机国产化。
总之，在高端光刻机领域，我国的技术仍然比较薄弱。目前，中芯国际已经从ASML成功订购了一台7nm制程的EUV光刻机，希望能够在高端芯片制造领域能够找到“备胎”。
Geek视界
上海微电子(SMEE)是国内光刻机龙头，于2002 年在上海成立；2008年11月，十五光刻机重大科技专项通过了国家科技部组织的验收；2009年12月首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付用户。2018年5月11日，SMEE第100台国产高端光刻机交付产线。公司产品广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
全球行业观察
国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。
其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。
但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。
如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。
2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。
首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。
努力的小孙Vlog
美国带领美欧日意图霸占上游高技术产品链把中俄等不屈服者遏制在被控制剥削的中下游，要想成长壮大打破封锁不管代价多大必须投入攻关核心技术。国家在战略部署、资金人才上继续投入支持；也要学习美帝发挥国家优势，在核心技术成长萌芽期帮助占领国内市场以发展壮大，避免投入良久即将成功时被美帝放开国外同类产品封锁后进来恶性竞争争抢我们自己的市场以遏制我们发展于摇篮之中。技术封锁本来就是米帝违背世贸规则的流氓作法，对依赖米帝核心技术和芯片抢占国内市场的国内“买办”公司要以国家安全为由加以遏制排斥以保护拥有核心技术的民族产业占领市场主流。这样有识之士顶层设计实行积极进取战略与对手争锋相对才算公平竞争，各项核心科技才可以摆脱美帝算计遏制真正成长壮大。
LiuXJ5
这么巨大的利润，企业家们怎么会光看别人赚钱，没人才没关系，砸钱挖人就行了，AMSL公司里总有有怨气的人，用钱挖过来，形成示范效应，慢慢就会把有真本事的人挖过来，最终会形成突破，我国的好多产业就是这么突破国际封锁的，只要下决心，没有办不成的事。
