歐界報道：
在眾多工業設計中，最難的可以說是製造手機芯片了。最近幾年，因為芯片的問題，我國科技企業也頻頻遭遇“卡脖子”的問題，無數國人都為之擔憂，不少國產廠商也開始加快佈局芯片自主研發，儘管現在國產芯片自主研發已經駛入快車道，但是和國際頂尖巨頭還存在著很大的差距，因為一直以來我國都沒有先進的光刻機設備。
眾所周知，芯片設計的研發離不開光刻機，尤其是先進製程工藝的芯片，但是全球先進光刻機市場中ASML一家獨大，此前中芯國際也斥巨資購買一臺先進的光刻機，然而如今因為美國的原因，ASML光刻機無法順利進入我國，這也給我國7nm以及更先進製程工藝芯片的發展帶來更加嚴峻的挑戰，要知道我國目前能夠量產的光刻機還停留在90nm階段，比ASML光刻機落後十幾年，可見差距有多大，這也表明我國加強光刻機建設迫在眉睫。
儘管中芯國際表示可以不使用光刻機就能夠研發出7nm工藝，但5nm乃至更先進製程工藝芯片產品絕對離不開光刻機，如果沒有光刻機就意味著我國在未來的芯片競賽中將落後對手一步，日後就很有可能被對手欺負。
然而，近日我國傳來好消息，光刻機的問題可以得到有效解決。據悉，上海微電子公司已經成功取得突破，其成功藉助紫外線光源實現22nm分辨率，這推動國產光刻機的發展朝前邁進一大步，該技術一旦成熟就意味著我國22nm光刻機即將問世，這樣一來將推動國產芯片實現進一步的發展，同時也給其他光刻機制造商帶來信心，有助於推動更多廠商攜手努力共同建設國產光刻機，提高我國在國際市場上的競爭力。
雖說在光刻機領域我國取得了新的進展，但是目前國內光刻機生產所需要的零部件依然需要從國外市場進口，很顯然在光刻機的生產過程中，我國對國外的依賴還是比較大的。不過，不管多難，我國企業都不能放棄，光刻機的自主研發是一個漫長的過程，日後還需要不斷努力，爭取將核心技術和供應鏈全都掌握在自己手中，期待日後國產光刻機能夠在國際市場中取得更好的成績，讓國產芯片在全球市場立足。
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