我國首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備和目前最先進的光刻機有什麼區別呢?

從小看海爾兄弟長大


藉此給各位普及下有關光刻機的一些常識:

首先,因特爾三星臺電的光刻機均買自於荷蘭ASML;

其次,他們均在aSmL持有股份(因特15%臺電5%三星3%,目前臺電已於2015年售出其全部股票/三星於2016售出其一半股份/因特也於2017年減持至5%);

綜上兩點臺電三星們只是有目前最高端光刻機的優先使用權並不是擁有光刻機獨立完全的核心技木(因為AMSL有將機器賣給別人的權力比如克強總理就為我們中芯要到了一臺7nm光刻機預訂2ol9年交付)

舉個票子,就像數學公式,奧數競賽的冠軍可以熟練使用各種公式解題但並不是能說他用來解題的公式是他發明或創立的,同理為什麼目前只有臺電能量產7nm也一樣,三星臺電因特等廠商用的是amsl生產一模一樣的光刻機,只能說明臺電運用原產機器的思路超群,就像我們考試一樣,面對同樣的試題學霸可以用已知知識(如公式等)快速給出答案甚至有多種解法,而學渣呢你就是告訴他公式他也一臉懵逼不可能得出正確答案。

其三,AMSL之前的光刻機首曝光為35nm,目前最先進的極紫EUⅤ首曝光為13.5nm,而目前鼓吹的7nm是多重曝光後的結果,強調一下是多重曝光;

其四,中科院通過驗收的光刻機是其七年技術攻關結果,不是美製裁中興後才頭腦一熱靈機一動就研發成功了,說明國家在十幾年前就在佈局了不是媒體帶路黨所說的鼠目寸光只求市場不管技術,順便說一下這臺光刻機在2017年已經研製成功並試產過一些芯片了(不是原理機明白?相關信息可查閱中國科技報)今年是驗收通過,再說三遍是驗收/驗收/驗收;

最後,amsL的極紫EUV首曝光達13.5nm是其近三十年(AMSL創立於1964年前身為半導體設備代理商1984于飛利浦光刻設備研發小組合作1995上市開始跨越式發展2012年引入因特三星臺電戰略投資三家合佔約23%的股份)的技術沉積結果/是AMSL光刻設備五代機,強調一下是目前世界最最先進的光刻五代機,而中科院的光刻機首曝光達22nm/是我們國產的光刻設備一代機,再重複一遍是一代機,五代13.5nm與一代22nm,技術孰優孰劣一目瞭然!

另外,AMSL極紫EUⅤ光刻機13.5nm使用的是193納米光源,成本達幾幹萬;國產SP光刻機22nm使用的是365納米光源,成本僅幾百萬元,幾幹萬與幾百萬,成本優勢高下立判!

至於有些說什麼實際量產10nm要N年以後(說跟amSl一樣需要多少多少設備多少多少材料等等)的說法,我也是無語了,國產Sp光刻機與荷蘭amSI光刻機是兩種不同技術路線,就好像把大麥和水稻一樣,雖然二者都可以做成饅頭和米飯來解決人們的飢餓問題,但水稻並不需要像大麥一樣收割打穀脫粒磨粉變為麵粉然後加水和麵加鹼發酵然後塑形或條狀或圓形再然後上鍋蒸等諸多步驟,水稻只需要收割打穀脫粒兩步變為大米就可以加水煮瞭如果再加上高壓鍋等設備就是在最後的出鍋時間都能與饅頭一較高下,除了以上步驟差異外再加上人力資源優勢那邊是十個人完成大麥從收割到上鍋蒸十多項事務這邊是一百人完成水稻兩三項成為大米並上鍋煮的事務,還有成本優勢國產是幾百萬上幹萬元國外是一億多美金(說明一下這裡說的是整個光刻機成本不是上文提到的光源成本,免得噴子們亂噴),你說最終結果會怎樣??只要不是瞎子或傻子都明白!!要不然你以為我們求爺爺告奶奶二十多年了AMsL就是不買給我們(就是從臺灣那裡花幾倍價錢買個落後二代的都要被人家警告一番)現在那邊卻突發善心均許中芯國際購買了,要清楚只要中芯可以有和國外廠商一樣的設備就有能力從國際市場搶下更多份額了,那以利益至上為首資本組織的為什麼會允許別人從他本來十拿九穩的口袋裡搶錢(標註一下,荷蘭屬於盧森堡公約的締約國,而盧森堡公約是一個禁止高精塵技術向中國開放並有封鎖傾向性的公約)?!


三座大山81182471


我們的首臺Sp光刻機和荷蘭阿斯麥的頂級光刻機有哪些區別。


一,荷蘭的阿斯麥光刻機已經可以非常成熟的加工製程為7納米的產品,我們的這臺光刻剛在前幾天通過驗收,一次曝光可以加工製程22納米的產品;雙重曝光後甚至可以加工10納米的產品,就是現在我國內的芯片還無法徹底靠自己的光刻機來生產;頂級商用芯片還需給別人來代工,給三星等等,與阿斯麥的差別兩到三代。


二,我們的光刻機光源只需幾萬塊錢一個,荷蘭阿斯麥的光源3000萬一個;這個重要設備的對比優勢顯著;光刻機整機售價阿斯麥一臺達到一億美金,我們的可以做整機只要幾百萬一臺,最貴也就千萬級別。

三,我們的sp光刻機用365nm的光源單次曝光做到22nm,雙重曝光做到10納米,單次曝光就能做到22納米,這是達到了行業內傳統的衍射極限。SP光刻機的光源技術可能是彎道超車阿斯麥極紫外光最關鍵的技術。有人把它們比做鳥槍和最強弓弩的對比。




牛頭馬面兩鬼


我國生產世界上首臺分辨力最高的紫外(即22納米@365納米)超分辨光刻裝備,並形成一條全新的納米光學光刻工藝路線,具有完全自主知識產權。全世界最先進最頂尖的光刻機,是荷蘭公司ASML生產的EUV光刻機,也就是極紫外線光刻機。這種光刻機,屬於ASML公司獨家壟斷,所以這一家荷蘭公司將每一臺光刻機都賣到了一億美元以上,蝕刻精度能達到14納米、10納米和7納米精度刻蝕。客戶包含三星,英特爾,臺積電等。目前國產的和國外的光刻機還不如一個等級,看每年進口芯片額就知道了


億鏈區塊鏈平臺


區別在於高精尖領域的應用上。


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