皇貴妃好
1、研究方向不一樣。中科院的是單個高精度刻錄，主要用於高精度元器件的生產，當然也可以用於芯片的研製、驗證（不是大規模生產）。荷蘭公司的光刻機是成像刻錄，主要用於大規模生產芯片，但是不能用於單精度刻錄。
2、兩個光刻機的原理不一樣，中科院的光刻機理論上而言更加有優越性，採用一條全新的納米光學光刻技術路線，具有完全自主知識產權，能有效規避專利陷阱。
3、未來發展方向也不一樣，相對外國用來大規模生產製造集成程度更高功耗更小的芯片，中科院的光刻設備主要用於實驗室科研、軍工。現階段對於芯片的生產而言沒有很大影響。
小八卦直通車
11月29日，中科院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”通過驗收，這是世界上首臺用紫外光源實現了22納米分辨率的光刻機。
光刻機為人所熟悉，因為它是集成電路製造業的核心角色。目前荷蘭ASML公司壟斷的尖端集成電路光刻機，加工極限為7納米，光電所的光刻機分辨率為22納米。
那麼我們是不是距離ASML不遠了，打破集成電路光刻機的壟斷指日可待了呢？其實並不是這樣的，大家千萬千萬不要被很多極其不負責任的媒體矇蔽了雙眼！！！！！
光刻機相當於一臺投影儀，將精細的線條圖案投射於感光平板，光就是一把雕刻刀。但線條精細程度有極限——不能低於光波長的一半。使用深紫外光源的光刻機是主流，其成像分辨力極限為34納米，分辨率進一步提高要用多重曝光等技術，很昂貴。
中科院的這個項目用的是一種叫做表面等離子體光刻法（SP）的辦法：金屬和非金屬薄膜貼合，交界面會有無序的電子；光線照射金屬膜，使這些電子有序振動，產生波長短得多的電磁波 ，可用於光刻。光電所研製的光刻機，在365納米波長光源下，單次曝光最高線寬分辨力可以達到22納米。
看出來了嗎？這是走了條不一樣的路，用另一種方式產生了需要的波……
走別的路當然要付出代價，事實證明，SP方法出來的電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了，才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法比。刻幾十納米級的芯片是沒法用SP光刻機的，必須得ASML的極紫外光刻機來，注意，是極紫外光！想要產生穩定的、大功率的極紫外光，非得ASML不可！
光電所的光刻機並不是用來做芯片的，而是加工一系列納米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導納米線單光子探測器、生化傳感芯片和超表面成像器件，這對中國的遙感成像，生化痕量測量，特種表面材料等領域有重要意義。
我們的這個光刻機標誌著我國掌握了超分辨光刻鏡頭、精密間隙檢測、納米級定位精度工件臺、高深寬比刻蝕和多重圖形配套光刻工藝等核心技術。雖然無法涉足集成電路領域，但這也是一項不小的成就。
《科技日報》打了個比方，說如果以此認為我們的光刻機彎道超車了，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。非常貼切，非常可笑！！！
我也看天下
先簡單一點正面回答：標誌著我國崛起！
由於現代網絡化的普及以及各行各業（尤其是科研領域）對芯片算力的依賴，高端光刻機研發成功對我國來說是一項極其重要的突破，從此以後，在芯片領域，我國不再被其他國家扼住咽喉；其帶來的巨大影響難以估量。
以下是詳述（很長，乾貨滿滿，看完您絕對不吃虧）：
一、扼住我國咽喉的《瓦森納協議》
一切還要從當年的冷戰時期說起。
二戰結束以後，美蘇進入冷戰。由於當時在美帝及其同盟眼裡，蘇聯及其盟國都是邪惡軸心。為了防止蘇方陣型發展高端武器，在美國提議下，一共十七個國家於1949年11月成立了一個叫做巴黎統籌委員會（簡稱巴統）的組織。這是西方發達工業國家糾集起來的一個非官方的國際機構，目的是是限制成員國向社會主義國家出口戰略物資和高技術。列入禁運清單的有軍事武器裝備、尖端技術產品和稀有物資等三大類上萬種產品。
後來隨著國內形勢變化，還有美國對日態度和亞洲形態的重新估量，1952年，中國被列入了巴統的管制範疇。
這就是《瓦森納協議》的前身。
對建國初期歷史有些瞭解的朋友可能還有印象，當時我國的大部分技術都需要蘇聯支援，無法從其他國家獲得援助，巴統的存在就是原因之一。
後來，1994年，巴統解散；但是我國的並沒有因此進入好時代。
因為，1996年，《瓦森納協定》正式簽訂，其全稱為《關於常規武器和兩用物品及技術出口控制的瓦森納安排》。主要目的是為了控制常規武器和高新技術貿易。
（當然，封鎖對象依然是包括我國在內的一些國家）
《瓦森納協議》嚴重影響著我國與其成員國之間開展的高技術國際合作。在中美高技術合作方面，美國總是從其全球安全戰略考慮，並以出口限制政策為藉口，嚴格限制高技術向我國出口。中美兩國雖然在能源、環境、可持續發展等領域科技合作比較活躍，但是在航空、航天、信息、生物技術等高技術領域幾乎沒有合作。
可以說，在高技術領域，我國一直被《瓦森納協議》扼住咽喉。
就拿晶圓代工來說，將時間推回到2011年，當時的全球半導體前15大設備供應商全部都是受到《瓦森納協議》限制的，這樣中芯國際就買不到最先進的製造設備，和比利時微電子研究中心（IMEC）的合作就是曲線救國的一種方式；IMEC先從ASML應用材料買設備，用完5年後符合瓦森納協議要求就可以轉賣給中芯國際，
這就是中芯國際落後的根本原因－－根本買不到新設備！Intel、三星、臺積電2015年能買到ASML10NM的光刻機。而大陸的中芯國際，2015年只能買到ASML2010年生產的32NM的光刻機。5年時間對半導體來說，已經足夠讓市場更新換代3次了。
除了不能買到最新的設備以外，受到《瓦森納協議》的影響，華裔工程師還不能進入到歐美等知名半導體公司的核心部門，防止技術洩露。
這種貿易和技術封鎖，也是我國大力推進光刻機研究的一個重要原因之一！
如今，三星等等企業都已經可以量產7NM級別的芯片，設備採購等等全都不是問題；我國卻無法買到最基礎的光刻設備（在《瓦森納協議》限制下，理論上我國如果要購買7NM級別的設備，最早也得到2023、24年左右，那還得有國家願意賣才行），所以，只能自行研究、自己製造。
知道了《瓦森納協議》對我國的封鎖和限制，自然也就能明白高端光刻機的研發成功，首先就是標誌著我國在芯片領域突破了一層限制，為我國芯片技術和產業的發展，拓寬了道路，這是最重要的一點。
雖然我國並不能因此就直接追上世界最尖端的隊伍，但是從此之後，我國的芯片技術將再上一個大臺階，很可能在不久的將來，國產芯片就會強勢崛起，無論是電腦，還是手機，都將大幅度降低對INTEL、AMD、高通等芯片企業的依賴性。
隨之而來的，一方面是在貿易方面（尤其是芯片相關領域），可以挺直腰桿，獲得更高的自由度（想想像雷軍這樣的老闆，天天跑去高通求爺爺告奶奶的日子……）；另一方面是在實用方面，國產芯片的成本必將低於進口芯片，這將進一步推進智能化產品的普及；還有就是在科研方面，由於光刻機和芯片的解鎖，很可能我國會再解鎖一批高精尖產品的製造工藝，從而對科技進步產生推動，例如航空、航天、生物、信息等等領域，必將都產生推動的作用。
但是這些如果細說，那就又會是很長很長的故事了。
最後，概括一下：總之，高端光刻機的研發成功，對我國來說是一項非常非常重要的突破，將給各行各業都帶來推進，其影響之大，難以想象；甚至說標誌著我國終將崛起，都毫不為過。
酔語
1.對中國來說是一項重大突破，可以實現22納米的芯片研發與生產，不會在關鍵時期被他人卡住。
2.目前全球光刻尖端技術是7納米，還需要持續加速發展才能突破其中的關鍵技術。
3.光刻是芯片生產中的一個環節，要製造7nm芯片還要在材料、機械、電子等多個方面提升後才能實現。
sk2018
光刻機是生產芯片的設備，中國起步比較晚，與西方還有很大差距，光刻機是一個產業，就像以前街上衝印像片的商店，把你的圖樣加工成芯片的初期半成品，這個就叫做代工，美國這麼發達的芯片產業也離不開代工。因此千萬不要以為有了光刻機就有了芯片，不是一回事。
tuofuo
已經證實中科院的設備還僅是原理機，有很大的侷限性，根本無法用於ic製造，不能解決中國芯片製造所面對的設備問題，不過可以應用在光柵、光子晶體之類的週期性結構產品上，比如，可以用於軍事類半導體材料。
開口就亂罵人的是瘋狗
該技術突破，保障了我國在基礎芯片上能夠保障國產化，可以有效供應國內廣大的基本需求，減少進口依賴，為繼續拉近了與發達國家技術的距離，保障即使在最壞的外部環境到來，能夠自主自強，滿足一般需求，不會在關鍵時刻完全卡殼！
望虔南
衷心祝賀，真誠祝福。但願，不是么蛾子，不是玩貓膩。
逍遙逸夫1
光刻機研究取得重大進展，但到成功應用還有很長、很長的路要走，攻克芯片加工技術何止幾家、幾十家研究機構在進行⋯只能一步一步來，各國都在前進，比無止境，一年一個樣
得亮1
好，為科技工作者點贊。堅持下去一定能登上頂峰。毛主席教導我們說“自力更生，艱苦奮鬥"，讓造不如買，買不如租見鬼去吧。
