中國光刻機技術和ASML的差距有多大？至少10年以上

眾所周知，這幾天大家又為中芯國際以及中國高端芯片製造擔憂起來了，原因是中國芯國際向ASML採購的一臺極紫外光刻機，可能生變了。因為ASML已向荷蘭當局申請出口許可4個月了，一直沒有得到許可，導致ASML無法按時交貨。

而這臺極紫外光刻機是中國唯一一臺極紫外光刻機，也是製造高端芯片必不可少的設備，目前只有ASML能夠生產。

於是有人問，目前中國刻蝕機能夠生產出5nm的來了，那麼國產光刻機的技術究竟在什麼水平，和ASML相比，還差多少，能不能短時間內追上來，從而不再依賴ASML？

實話實說，中國目前的光刻機技術要和ASML相比的話，至少有10年以上的差距，短時間內是追不上的，所以還是想辦法把這臺極紫外光刻機趕緊拉回來才是正事，國產短時間內是沒戲的。

我們知道在光刻機領域，有人根本ASML的技術並結合芯片製造，分為四個檔次，分別是超高端，高端，中端，低檔。

分別對應的節點分別5/7nm工藝、7-28nm工藝、28-65nm工藝，65-90nm工藝。目前ASML的產品覆蓋所有檔次，而nikon的產品停留在28nm這個節點，cannon和smee(上海微電子）停留在90nm這個節點。

意思就是中國的最高技術是90nm，生產出來的光刻機處於低端，只能生產90nm的芯片，而在90nm之後，還有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。

而這些節點技術，有好幾個臺階要上，首先是45nm的以階，再到22nm的臺階，再到10nm臺階，再到7nm的臺階，真的是一步一個坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。

所以說，從目前的這個情況來看，國產光刻機技術落後ASML至少是10年以上，甚至說10年都算是少的了，可以說是萬里長征才開始第一步。

當然了，正如大家所想，再難也得研發，否則就會被人卡脖子，目前這臺極紫外光刻機不就是如此麼？用於生產5/7/8nm芯片的，是中芯國際用於下一代技術研發的，現在被卡了，可能會給中國高端芯片製造拖後腿了。