眾所周知，自從國內中國科技巨頭被列入到“實體清單”之後，國內的網友便紛紛擔憂中國是否會在芯片、操作系統等核心科技產品領域，受到進一步限制，但從目前的國內的芯片、操作系統領域的發展來看，國產芯片製造領域的發展似乎又發生了“變故”，最近一段時間，中芯國際向ASML採購的極紫外光刻機可能無法正常交付，原因就是ASML已向荷蘭當局申請出口許可4個月了，至今還尚未得到向中國出口光刻機產品的許可，這要是直接導致ASML一直無法按時交貨，而中芯國際也無法獲得製造高端芯片的設備，要知道目前高端光刻機只有ASML能夠生產。
相信大家都知道，中芯國際所訂購的這臺極紫外光刻機，是目前中國唯一一臺極紫外光刻機，能夠用於5/7/8nm芯片的製造，簡單點說，中芯國際所採購的這臺紫外光刻機，關乎到未來中芯國際甚至是中國芯片製造業能否直接追上國際主流的頂尖水準，要知道目前臺積電、三星電子等芯片代工巨頭的芯片製造水準，也是依靠ASML所提供的高端光刻機產品，才能夠製造出7nm甚至是5nm的高端芯片產品。而這種高端光刻機產品目前目前只有ASML能夠生產，所以說中芯國際能否承購成功採購這臺極紫外光刻機，確實是非常重要，無論是對中芯國際，還是中國芯片製造業的發展都顯得至關重要。
但或許很多人就會提到，此前曾有新聞報道，中國的刻蝕機目前也已經能夠生產出5nm工藝水準了，但事實上中國的光刻機技術依舊處於低端級別，僅僅能夠生產主90nm製程的芯片，這意味著和ASML的高端光刻機相比，至少還有著將近十年的差距，可以說在短時間內，國產高端芯片製造，依舊還需要依賴ASML，所以說如何將這臺極紫外光刻機趕緊“弄到手”才是真事，畢竟這對於中芯國際和中國芯片製造水平都將會得到極大的提升。
從目前芯片製造領域檔次而言，共有四個檔次，分別是超高端，高端，中端，低檔，目前超高端芯片製造工藝為5/7nm水準，而高端芯片製造工藝則在7-28nm之間，中端芯片製造工藝則在65nm-90nm之間，而低端芯片製造工藝則在90nm以上。而目前中國的光刻機芯片製造工藝水準恰恰只有90nm工藝水準，所以也是處於最低端級別。雖然目前中芯國際已經正式量產了14nm芯片，但這主要還是要依靠ASML所提供的光刻機，才讓中芯國際能夠在芯片製造工藝上有著進一步的突破。
簡單點說， 中芯國際想要研發下一代的10nm、7nm、5nm工藝，這臺極紫外光刻機絕對是目前必不可少的設備，而目前ASML無法按時交貨，雖然ASML並沒有想要對中芯國際“斷供”的念頭，但最終還是被卡在可出口許可證上，由於這臺極紫外光刻機承載的是中國在高端芯片製造方面的希望，所以這次“事件”也是受到了廣大網友們的關注。
面對如此尷尬的局面，國內的很多網友們也紛紛表示：“希望中國能夠趕緊在光刻機領域實現重大突破，哪怕是花費高價研發，能夠追趕上ASML的水平就好了。”但事實上，從目前國產光刻機的技術水準，至少還落後了ASML至少十年，更為關鍵的是，ASML此前曾對外豪言：“即便是我對外公開圖紙，包括中國在內的所有芯片巨頭也都無法造出和我一樣強的光刻機設備。”如此看來中國光刻機技術無論是在技術差距，還是在人才、經驗等方面，都存在較大的差距。
針對於此，國內也有業內人士透露，光刻機原理實際上就是一個放大的“單反”設備，而光刻機最核心的設備就是鏡頭，而這個鏡頭直接將光罩上的設計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，最終形成電路圖形，其次便是分辨率，分辨率直接決定了這臺光刻機的芯片工藝製造水平，最後一道程序便是套刻精度，套刻精度將會對此前兩到光刻工藝進行精度對準，如果對準誤差過大，就將會直接決定芯片的良品率，要知道良品率的高低是能夠直接決定這款芯片產品的成本。
所以說目前在鏡頭光源、分辨率、套刻精度這三項核心技術上，除了ASML能夠擁有更好的技術，以及更為強悍的工程師調教經驗積累等等，而目前這些高尖端技術領域，在國內依舊還處於“一片空白”，無疑這些都是直接制約國產光刻機前進的主要障礙。或許也正是如此，ASML才會放出豪言：“說到即便是自己公開圖紙，中國科技公司也無法“山寨”，複製製造出能與ASML匹敵的高端光刻機產品。”
寫在最後：無疑ASML絕對是全球最強悍的芯片巨頭，他直接掌握了全球高端芯片生產的命脈。當然了，對於中國芯片製造業長久發展而言，即便是再難也得研發，否則就會一直被別人“卡脖子”，就會給中國高端芯片製造拖後腿。小夥伴們，你們對此怎麼看呢？歡迎在評論區中留言討論！
閱讀更多 大爆炸科技 的文章
