众所周知，自从国内中国科技巨头被列入到“实体清单”之后，国内的网友便纷纷担忧中国是否会在芯片、操作系统等核心科技产品领域，受到进一步限制，但从目前的国内的芯片、操作系统领域的发展来看，国产芯片制造领域的发展似乎又发生了“变故”，最近一段时间，中芯国际向ASML采购的极紫外光刻机可能无法正常交付，原因就是ASML已向荷兰当局申请出口许可4个月了，至今还尚未得到向中国出口光刻机产品的许可，这要是直接导致ASML一直无法按时交货，而中芯国际也无法获得制造高端芯片的设备，要知道目前高端光刻机只有ASML能够生产。
相信大家都知道，中芯国际所订购的这台极紫外光刻机，是目前中国唯一一台极紫外光刻机，能够用于5/7/8nm芯片的制造，简单点说，中芯国际所采购的这台紫外光刻机，关乎到未来中芯国际甚至是中国芯片制造业能否直接追上国际主流的顶尖水准，要知道目前台积电、三星电子等芯片代工巨头的芯片制造水准，也是依靠ASML所提供的高端光刻机产品，才能够制造出7nm甚至是5nm的高端芯片产品。而这种高端光刻机产品目前目前只有ASML能够生产，所以说中芯国际能否承购成功采购这台极紫外光刻机，确实是非常重要，无论是对中芯国际，还是中国芯片制造业的发展都显得至关重要。
但或许很多人就会提到，此前曾有新闻报道，中国的刻蚀机目前也已经能够生产出5nm工艺水准了，但事实上中国的光刻机技术依旧处于低端级别，仅仅能够生产主90nm制程的芯片，这意味着和ASML的高端光刻机相比，至少还有着将近十年的差距，可以说在短时间内，国产高端芯片制造，依旧还需要依赖ASML，所以说如何将这台极紫外光刻机赶紧“弄到手”才是真事，毕竟这对于中芯国际和中国芯片制造水平都将会得到极大的提升。
从目前芯片制造领域档次而言，共有四个档次，分别是超高端，高端，中端，低档，目前超高端芯片制造工艺为5/7nm水准，而高端芯片制造工艺则在7-28nm之间，中端芯片制造工艺则在65nm-90nm之间，而低端芯片制造工艺则在90nm以上。而目前中国的光刻机芯片制造工艺水准恰恰只有90nm工艺水准，所以也是处于最低端级别。虽然目前中芯国际已经正式量产了14nm芯片，但这主要还是要依靠ASML所提供的光刻机，才让中芯国际能够在芯片制造工艺上有着进一步的突破。
简单点说， 中芯国际想要研发下一代的10nm、7nm、5nm工艺，这台极紫外光刻机绝对是目前必不可少的设备，而目前ASML无法按时交货，虽然ASML并没有想要对中芯国际“断供”的念头，但最终还是被卡在可出口许可证上，由于这台极紫外光刻机承载的是中国在高端芯片制造方面的希望，所以这次“事件”也是受到了广大网友们的关注。
面对如此尴尬的局面，国内的很多网友们也纷纷表示：“希望中国能够赶紧在光刻机领域实现重大突破，哪怕是花费高价研发，能够追赶上ASML的水平就好了。”但事实上，从目前国产光刻机的技术水准，至少还落后了ASML至少十年，更为关键的是，ASML此前曾对外豪言：“即便是我对外公开图纸，包括中国在内的所有芯片巨头也都无法造出和我一样强的光刻机设备。”如此看来中国光刻机技术无论是在技术差距，还是在人才、经验等方面，都存在较大的差距。
针对于此，国内也有业内人士透露，光刻机原理实际上就是一个放大的“单反”设备，而光刻机最核心的设备就是镜头，而这个镜头直接将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，最终形成电路图形，其次便是分辨率，分辨率直接决定了这台光刻机的芯片工艺制造水平，最后一道程序便是套刻精度，套刻精度将会对此前两到光刻工艺进行精度对准，如果对准误差过大，就将会直接决定芯片的良品率，要知道良品率的高低是能够直接决定这款芯片产品的成本。
所以说目前在镜头光源、分辨率、套刻精度这三项核心技术上，除了ASML能够拥有更好的技术，以及更为强悍的工程师调教经验积累等等，而目前这些高尖端技术领域，在国内依旧还处于“一片空白”，无疑这些都是直接制约国产光刻机前进的主要障碍。或许也正是如此，ASML才会放出豪言：“说到即便是自己公开图纸，中国科技公司也无法“山寨”，复制制造出能与ASML匹敌的高端光刻机产品。”
写在最后：无疑ASML绝对是全球最强悍的芯片巨头，他直接掌握了全球高端芯片生产的命脉。当然了，对于中国芯片制造业长久发展而言，即便是再难也得研发，否则就会一直被别人“卡脖子”，就会给中国高端芯片制造拖后腿。小伙伴们，你们对此怎么看呢？欢迎在评论区中留言讨论！
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