最近幾年的半導體行業迎來了飛速的發展，而就在最近，臺積電、三星、英特爾加大投資也逐漸顯露出來。
隨著採用EUV（極紫外線）的光刻設備問世，半導體制造工藝時隔10年正在發生更新換代，並且以一種高速狀態發展。儘管今年開年並不順利，因為疫情的影響，拖垮了行業進度。
消息表示，臺積電將把2020年的設備投資額最多提高至160億美元，比2018年增加5成以上，創出歷史新高。英特爾計劃2020年投入約170億美元。三星電子並未透露具體計劃，但預計在2019年的26.9萬億韓元的基礎上有所增加。
而這都和半導體行情的復甦有關。世界半導體貿易統計組織的數據顯示，全球半導體市場規模2019年減少13％、降至4089億美元，到2020年有望轉為增長6％。隨著5G實用化，廣泛產業的半導體需求正在增加。
半導體制造工藝的更新換代也在加快，把電路轉印到半導體上的光刻設備的方式正時隔10年發生改變。全球最尖端極紫外線(EUV)光刻設備的荷蘭ASML公司，正在提升整個行業的水平。
半導體的電路線寬越微細化，性能越會提高，耗電量也將降低。現在最先進的商用技術是7納米，形成如此細的電路，需要的正是極紫外線光刻設備。這也是臺積電和三星電子正展開投資競爭的方向。隨著最尖端的極紫外線光刻設備的普及，周邊的半導體制造設備和原材料領域也將發生更新換代，從而影響到整個周邊行業。
臺積電和三星電子正在利用極紫外線光刻設備量產線寬7納米的半導體。目前臺積電和三星也正在世界範圍內接了大量的訂單，臺積電更是直接拿下了華為和蘋果的訂單，並且一直都是華為和蘋果的合作伙伴，在7nm時代中的合作，也將持續到5nm時代。臺積電對於技術也是非常的看重，即使商用7nm已經非常成熟，但是依舊在投入資金研發5nm甚至3nm，這在整個行業內都是處於領先地位的，也是臺積電能夠脫穎而出最重要的原因之一。
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