眾所周知，中國人模仿功夫的水平是一流的，尤其抄襲的水平更高，比如汽車，10多萬造的眾泰車做到和百萬保時捷外觀差不多。還有各種山寨都證明了中國“山寨”水平非常之高，只要你有成品，我拿過來研究，就可以造出和你一樣的東西來。其實歷史上也不乏這種把別人的產品拿來研究，再逆向製造出來的例子，但在芯片界中國卻一直很落後，比如英特爾的CPU最強，那麼買幾個回來研究，再仿製出來啊，高通的處理器牛，也可以一樣操作，為何在芯片上這種辦法就行不通了呢？中國人模仿這麼厲害，為何不能研究英特爾的芯片，再仿製出來呢？
英特爾的成功主要基於擁有更好的晶圓廠，而不是更好的設計，但是他們在製造方面的領先地位正在消失，所以：是的，中國建立一家比英特爾還好的公司，包括其他國家或者地區也可以。 臺積電可能是數字設計領先的製造商（在英特爾之後），它與中國大陸非常接近，後續也是可能和中國大陸合作的。中國的彈道導彈和火箭技術來自麥卡錫時代被踢出美國的人。 如果特朗普的計劃效仿，可能會有另一批中國專家離開硅谷，回家設立新公司。

位於光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成。鏡片得高純度透光材料+高質量拋光。SMEE光刻機使用的鏡片，得數萬美元一塊。ASML的鏡片是蔡司技術打底。鏡片材質做到均勻，需幾十年到上百年技術積澱。“同樣一個鏡片，不同工人去磨，光潔度相差十倍。”SMEE總經理賀榮明說，他在德國看到，拋光鏡片的工人，祖孫三代在同一家公司的同一個職位。另外，光刻機需要體積小，但功率高而穩定的光源。ASML的頂尖光刻機，使用波長短的極紫外光，光學系統極複雜。
我們知道，現在不管是電腦領域的處理器還是手機領域，都在大力發展生產工藝，從早期的幾百納米發展到現在的10納米，但是隨著生產工藝的不斷提升，已經在逐漸接近原子的大小了，所以工藝的提升已經快走到盡頭，以前我們可以從180納米工藝直接提升到90納米，一下子就可以提升90納米，但是想從10納米提升到5納米，那難度要大得多，而且提升後帶來的效能也要比以往小的多，所以通過工藝提升來提高性能，這條路是越走越窄了。
到了1986年，所謂的命中註定卻迅速給英特爾帶來了災難。實際上，1986年是英特爾歷史上唯一虧損的一年。全球的市場過飽和造成DRAM芯片價格跳水，而成了DRAM領域最小的玩家之一的英特爾，立刻就感到了前所未有的壓力。在這個生死存亡關頭，Andy Grove出任CEO並接管了英特爾。他做了個孤注一擲卻又經過深思熟慮的決定，把英特爾帶出了內存製造行業的泥潭。
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