光刻胶：光电信息行业图形化方案核心材料。光刻胶是光刻工艺的关键化学品，主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，下游主要用于集成电路、面板和分立器件等领域，是微细加工技术的关键性材料。
行业需求不断增长，国内增速显著高于海外。在下游半导体、LCD、PCB等行业需求持续扩大的拉动下，全球光刻胶市场将持续扩大。据IHS，2018年全球光刻胶市场规模为85亿美元，2014-2018年复合增速约5%，未来光刻胶复合增速有望维持5%。伴随着全球半导体、液晶面板以及消费电子等产业向国内转移，国内对光刻胶需求量迅速增量。据前瞻产业研究院，2011-2017年，国内光刻胶需求复合增速达14.69%，至2017年底已达7.99万吨；国内光刻胶市场规模复合增速达11.59%，至2017年底已达58.7亿元。
国外企业供应为主。光刻胶行业由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研发，呈现出寡头竞争的格局。全球主要供应企业包括日本合成橡胶、东京日化、罗门哈斯、日本信越和富士电子材料，占据全球87%的市场份额。
半导体光刻胶持续增长，国产厂商持续发力。伴随着全球半导体行业的快速发展，全球半导体光刻胶市场持续增长。据SEMI，2018年全球半导体光刻胶市场规模20.29亿美元，同比增长15.83%。其中，中国、美洲、亚太、欧洲、日本分别占比32%、21%、20%、9%、9%。分产品来看，ArF/液浸ArF对应先进IC制程，市场份额占比最高，达到41%，未来随着多重曝光技术的使用，ArF光刻胶市场需求持续扩大。国内目前半导体光刻胶供应商主要包括晶瑞股份、北京科华、南大光电等。晶瑞股份i线光刻胶量产，KrF光刻胶处于研发阶段。北京科华KrF光刻胶已向中芯国际等企业供货，ArF光刻胶处于研发阶段。南大光电拟在宁波经济开发区建设25吨KrF光刻胶。
LCD光刻胶中国需求迎来快速增长。随着全球面板产能陆续向中国大陆转移，国内LCD光刻胶需求快速增长。据CINNOResearch，2022年大陆TFTArray正性光刻胶需求量将达到1.8万吨，彩色光刻胶需求量为1.9万吨，黑色光刻胶需求量为4100吨，光刻胶总产值预计高达15.6亿美金。
投资建议。随着下游电子行业持续往中国转移，相关半导体及面板企业持续扩产。中国光刻胶行业有望迎来从量变到质变的跨越，相关企业有望通过下游认证，迎来快速发展，建议关注雅克科技、晶瑞股份、飞凯材料。
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