03.06 中芯国际缺少EUV光刻机,拿什么生产7nm工艺?此人是关键

随着科技的迅速发展,信息化的时代走进人们的生活,人们越来越依赖电子产品,甚至可以说是生活的必需品,而构成这些电子产品的核心就是芯片。

目前5nm芯片生产工艺,台积电和三星今年就要开始量产,中国的芯片制造工艺还一直处于追赶的状态。

中芯国际缺少EUV光刻机,拿什么生产7nm工艺?此人是关键

中芯国际作为我国最大的晶圆代工厂,自去年年底已经量产14纳米工艺,该工艺带来了1%的营收,760万美元的收入,可谓是取得了很不错的成绩。

据了解,中芯国际的12nm的改进版和已经量产的14nm工艺技术,两者都是该公司是第一代Fin FET工艺。

像N+1、N+2Fin FET这样先进的工艺也在加紧研发中,前者相当于7nm的低功耗版,后者则是7nm工艺的高性能版。

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关键点是:没有高端EUV光刻机的中芯国际,7nm工艺拿什么生产、何时能量产?

最新消息称,在7nm工艺技术上,在今年第四季度中芯国际将实现小规模生产,,而这个消息比之前的爆料要好了很多,进度更快。

可是前不久全球唯一一家能够生产EUV光刻机的荷兰ASML,因受美国的压力而无法无期,无法向中芯国际交付EUV光刻机。

看到这里不懂芯片制造的小伙伴可能会有疑问:没有EUV光刻机怎么还能实现7nm工艺?

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根据中芯国际联席CEO梁孟松表示,在当前的环境下,对于N+1、N+2代工艺,EUV工艺不会使用到这两项工艺上。等相关设备到齐以后,可能会在N+2工艺上采用EUV技术,但是N+2工艺的光罩只进行几层,而大规模向EUV光刻技术转型这样的进展,在之后更先进的工艺中才会进行。

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在7nm工艺节点上,已经发展了3种类型,其中N7与N7P制造工艺可以不采用EUV光刻技术,而N7+工艺才会使用EUV工艺技术,不过就算使用EUV技术,其光罩层数也非常少。

在5nm工艺节点上,EUV光刻技术就得到了充分的利用,且光罩层数可达到14层之多,属业界较高的技术水平。

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根据梁孟松的表示,中芯国际7nm工艺技术的发展路线与台积电相差不大,虽然现在差距很大,但是现在也已经能够量产14nm芯片了。

其实对工艺要求没有太高的产品可以考虑中芯国际,这也是华为在芯片困难时期,把海思一部分14nm芯片订单交给中芯国际代工。

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那么我们有没有想过,这背后到底发生了什么,为什么中芯国际能够在这么短的时间取得如此大的突破?

要知道,中国半导体的龙头企业非中芯国际莫属,从2000年建立以来,这一路上没少吃苦头,期间发生千变万化的局势更是令人头昏眼花。开业十余年亏了九年,技术专利诉讼,CEO替换、创始人出局、派系斗争等等,中国半导体产业都寄托于这家公司,曾经是多么狼狈不堪。

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中芯国际前期的发展除了张汝京和邱慈云等人外,这位半导体人才梁孟松,短短298天时间,就攻克了14nm工艺技术的难关,而且还将该工艺良产率提升至95%。

曾经梁孟松在台积电的研发技术创新这一块,排在前十位的顶尖人才,由于差别待遇,在2009年离开台积电。过后半年左右,三星将梁孟松招入门下,而三星当时处于28nm工艺向20nm工艺发展的一个过程,此时梁孟松提议直接研发14nm工艺,直接跨越了20nm与16nm这道门槛,这其中的技术难度可想而知!

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在半导体领域梁孟松是顶尖的人才,加上此前在台积电丰富的研发经验,把14nm研发问世后,整整领先台积电半年之久。

为此三星抢走台积电苹果公司A9处理器的订单,高通一大半订单也向三星靠拢。这彻底惹怒了台积电,直接控告梁孟松授予台积电研发技术秘密给三星的罪名,最终法院宣判梁孟松在2015年12月30日之前,不得以任职或者其他形式继续为三星提供服务。而且限制期结束后,也不允许到台积电的竞争对手工作。

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三星的合同期满结束后,梁孟松便接收到了中芯国际的邀请,梁孟松经过三家换门的坎坷经历后,于2017年10月加入中芯国际。

随着梁孟松的加入,中芯国际是否会在短时间内跻身世界一流水平,做到当初三星跨域性的成就?

其实想赶上台积电和三星还是非常困难的,首先中兴国际如果像当初三星那样跳跃性地突飞猛进,是否会引来三星的起诉,再次重演台积电对梁孟松控告的事件,这些都是不确定的。

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其次,由于《瓦森纳协议》规定中,发达国家不能将某些高精端的技术设备出口给中国,中芯国际很难买到最先进的光刻机来生产晶圆。想要搞好半导体,无非两样东西:钱和人才!中国早期发展半导体可以说是,靠着张汝京、蒋尚义等一批半导体专家从0到1走出来的。

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但是人才短缺的问题也一直伴随着,与半导体的日夜轮班研发相比,更多人选择如今快速发展,且光鲜亮丽的互联网行业,或者是一些其他的行业,最终结果会怎么样?正所谓一将难求,千军难道!这个短板是时候要补齐了。


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