光刻機是集成電路生產製造過程中的關鍵設備，主流深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻機主要由荷蘭ASML公司壟斷生產，屬於國內集成電路製造業的“卡脖子”技術。甘棕松團隊在沒有任何可借鑑的技術情況下，開拓了一條光製造新的路徑，打破了三維微納光製造的國外技術壟斷，在這個領域，從材料、軟件到光機電零部件，都將不再受制於人。在解決製造速度等關鍵問題後，該技術將有望應用於集成電路製造。
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