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28纳米的光刻机可以通过多重曝光技术制作14纳米，12纳米，10纳米，7纳米的芯片。
中国现在量产普及的光刻机是90纳米，也就是我们凭自己的光刻机可以做65纳米芯片。65纳米光刻机已经成功，还没有量产，如果65纳米量产了，28纳米以上芯片我们都没问题了。
28纳米光刻机我们关键部件都已经突破，最好的情况一两年内会出产品，28纳米光刻机突破，我们最多可以生产7纳米的芯片。
采用多重曝光提升工艺会显著增加成本。所以我们必须突破极紫外光刻机，希望能够在十年之内突破。
领地传奇
光刻机的光学曝光系统是不允许设备超过自己纳米级别的芯片的。
元器件种类很多，并不是所有的器件都需要最高精度的光刻机生产线的。一般一个大的代工厂，会布局好几代制程工艺生产线。
按照对光刻机制程工艺的要求可以分为：
最高制程工艺：消费级的主芯片，存储器
中等高级制程工艺：工业类的主芯片，高精度的ADC 运放等
低等制程工艺：模拟器件
最差等制程工艺：被动器件
所以代工厂会根据用户要代工的产品情况，来选择用哪种产线更合适。最新的制程工艺上线以后，原来的就用于其他元器件的生产，一般不会浪费的，对于最末端的产线，要么卖给低端代工厂或者拆掉，但是那时都是已经早就收回成本了。
青羊镇牛人
光刻机最重要的是机头，其他系统不单独销售，所以只有整体购买，现在手机芯片要求越来越高，但是其他行业芯片要求没那么高，还是可以用的，你这用一年就扔也太土豪了，敢情你家汽车跑完一箱油就换新车呀
学会跟自己和解
你以为只有手机电脑用芯片啊？电梯就没有了？指纹锁给你用5纳米的芯片有意义吗？似乎现在还有微米级的芯片生产呢！手机主芯片升级，设备就转去次级芯片，再转更低级的芯片生产！所有行业都是这样升级换代的！
大叔头不秃
台积电已经在布局2nm了，saml的机器也在研发了
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