在晶圓代工市場，臺積電與三星的競爭始終是大家關心的戲碼。三星雖然有高通等VIP客戶，但在7納米制程節點，高通預計會轉投臺積電，三星要想受更多客戶的青睞，只能從製程技術著手了。這也是三星跳過非EUV技術的7納米制程，直接上7納米LPP EUV製程技術的原因。
如今，三星終於公佈了7納米LPP製程已完成新思科技（Synopsys）物理認證，意味著7納米EUV製程將可全球量產了。
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目前全球前幾大晶圓代工廠商，英特爾10納米制程還沒搞定，距離7納米制程最遙遠。臺積電7納米制程量產比較順利，會有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續流片、量產。
臺積電第一代7納米制程，使用的還是傳統多重曝光技術，必須到2019年第2代7納米制程才會使用EUV光刻技術。
格羅方德也走與臺積電相似路線，預計2018年量產7納米DUV製程還是傳統的深紫外光刻技術。對此，號稱頻率可達5GHz的AMD 7納米Zen 2處理器會使用格羅方德的7納米制程技術，2019年初問世，2020年再下一代才是7納米EUV製程技術。
相對其他競爭對手，三星在EUV技術最積極。三星直接跳過第一代非EUV光刻7納米制程，直接使用加入EUV技術的7納米LPP製程，預定2018下半年正式量產。日前，新思科技與三星已聯合宣佈，三星使用的7納米LPP製程技術完成IC驗證器的認證。
三星完成這次認證之後，7納米LPP製程就可立即提供認證的技術資料，包括DRC設計規則檢查、LVS佈局與原理圖、金屬填充技術檔等予相關客戶，意味著三星的7納米LPP製程正式進入量產階段。
目前EUV光刻技術競爭激烈，各家大廠搶EUV光刻機也成為重要目標之一。根據之前消息，ASML的EUV光刻機，臺積電訂購了約10臺，三星訂購約6臺，英特爾訂購3臺，而格羅方德的EUV訂單數量不詳，中國大陸的中芯國際也訂了1臺EUV光刻機，將用於7納米制程技術研究，預計2019年初交貨。各家廠商都有EUV光刻機的情況下，似乎未來7納米節點要勝出，就必須比較各家的技術與管理能力了。
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